本文轉(zhuǎn)自：財(cái)聯(lián)社
公司秉承大國(guó)工匠精神，腳踏實(shí)地，精益求精。自成立以來(lái)，與業(yè)內(nèi)知名專家和科研院校保持高度合作，為公司的科技創(chuàng)新和技術(shù)發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)?？拐鹬Ъ?、管廊支架從創(chuàng)立自主品牌，到開(kāi)發(fā)并擁有多項(xiàng)發(fā)明專利；從通過(guò)ISO9001:2000質(zhì)量系統(tǒng)認(rèn)證，到獲得機(jī)電設(shè)備安裝工程專業(yè)承包三級(jí)資質(zhì)。公司的發(fā)展一步一個(gè)腳印，一年一級(jí)臺(tái)階。一路砥礪奮進(jìn)，踏歌而行。
財(cái)聯(lián)社資訊患上悉，據(jù)媒體報(bào)道，韓國(guó)半導(dǎo)體光刻膠的供需進(jìn)入緊迫狀態(tài)，庫(kù)存量降到了馬奇諾防線——3個(gè)月水平如下。這是因?yàn)橐猿墒旃に嚍橹鞯男枰獎(jiǎng)≡觯墒翘峁﹨s不跟上。同時(shí)這也是未能解脫依附日本提供商的服從。
據(jù)悉，提供難題加劇的產(chǎn)物主若是用于成熟工藝的光刻膠，包羅從I-line到氟化氪（KrF）。盡管不像日本的進(jìn)口限度工具——用于極紫外（EUV）等尖端工藝的光刻膠，但其市場(chǎng)占有率**大，包羅用于求過(guò)于供的8英寸晶圓產(chǎn)物曝光制程，以及3D NAND 閃存（KrF）。在所有的晶圓制作資料中，半導(dǎo)體光刻膠憑仗其重大且精準(zhǔn)的成份組成要求而具備*高的價(jià)格含量。半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)物由低端到高端可分為g線、i線、KrF、ArF以及EUV光刻膠，*高真?zhèn)€EUV光刻膠根基被日本以及美國(guó)企業(yè)所操作。牢靠證券合成指出，當(dāng)初國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻膠主要以低端產(chǎn)物為主，技術(shù)水平與外洋差距甚遠(yuǎn)。但在多項(xiàng)**政策反對(duì)于以及大基金注資的布景下，日后外鄉(xiāng)替換將成為臨時(shí)趨勢(shì)。當(dāng)初已經(jīng)有少數(shù)企業(yè)已經(jīng)開(kāi)始鋒铓畢露，實(shí)現(xiàn)從0到1的突破。
A股上市公司中，華懋科技旗下徐州博康近期收到某國(guó)內(nèi)干流存儲(chǔ)芯片廠商的半導(dǎo)體光刻膠洽購(gòu)定單，此前該產(chǎn)物型號(hào)全副依附于外洋進(jìn)口。容大感光具備1050噸呈現(xiàn)用光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠及配套化學(xué)品的消耗能耐，將新增1.53萬(wàn)噸呈現(xiàn)用光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠及配套化學(xué)品產(chǎn)能。南大光電已經(jīng)建成兩條ArF光刻膠消耗線，合計(jì)產(chǎn)能25噸，當(dāng)初ArF光刻膠有多款產(chǎn)物正在多家客戶同時(shí)妨礙認(rèn)證。
（作者：147小編）
